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Hitachi日立高新磁控溅射器MC1000

浏览次数:214

更新时间:2020-08-19

简要描述:

Hitachi日立高新磁控溅射器MC1000(Hitachi Ion Sputter )采用了电磁管电极,能够大限度地减轻对样品的损坏,并在样品表面涂覆一层均匀粒子。适用于高分辨率的扫描式电子显微镜。

Hitachi日立高新磁控溅射器MC1000(Hitachi Ion Sputter )采用了电磁管电极,能够大限度地减轻对样品的损坏,并在样品表面涂覆一层均匀粒子。适用于高分辨率的扫描式电子显微镜。
z大样品直径:60 mm
z大样品高度:20 mm
 

Hitachi日立高新磁控溅射器MC1000特点:
采用LCD触摸屏,可以更加简便地设定加工条件
可处理较厚或较大的样品(选配件)
记忆功能可存储常用加工条件

规格:

 

项目说明
放电类型磁控二极管放电型(电场垂直于磁场)
电极组成反向平行盘(嵌入磁铁)
电压大0.4Kv DC(直流可变)
电流大40mA DC

喷镀速率(大)[条件]

压力:7Pa

放电电流:40mA

标靶与样品表面之间的距离:20mm

Pt靶(选配件)15nm/min
Pt-Pd靶(选配件)20nm/min
Au靶(选配件)35nm/min
Au-Pd靶(选配件)25nm/min
样品尺寸大直径Ф60mm
大高度20mm
机械泵135/162 L/min(50/60Hz)
靶材﹡²Pt, Pt-Pd (8: 2), Au, Au-Pd(6: 4)
电源要求单相,100VAC(±10%)15A(50/60Hz)3-针插头线缆(3m)
尺寸宽度450mm
长度391mm
高度390mm
重量主机:约25Kg 机械泵:约28kg

﹡¹:喷镀速率仅供参考

﹡²:主机内不包括靶材。请从选项中选择(鉑,铂-钯,金,金-钯)


注:该仪器未取得中华人民共和国医疗器械注册证,不可用于临床诊断或治疗等相关用途

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