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Hitachi日立高新离子研磨装置IM4000

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更新时间:2020-08-19

简要描述:

Hitachi日立高新离子研磨装置(HITACHI Ion Milling System IM4000 )具有断面加工和平面研磨功能的混合仪器!
日立高新离子研磨装置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000 )的混合模式带有两种研磨配置:
断面加工:将样品断面研磨光滑,便于表面以下结构高分辨成像。
平面研磨:将样品表面均匀研磨5平方毫米,从不同角度有选择

Hitachi日立高新离子研磨装置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000  )具有断面加工和平面研磨功能的混合仪器!

日立高新离子研磨装置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000  )的混合模式带有两种研磨配置:
断面加工:将样品断面研磨光滑,便于表面以下结构高分辨成像。
平面研磨:将样品表面均匀研磨5平方毫米,从不同角度有选择地研磨,以便突出样品的表面特性。

日立高新离子研磨装置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000  )的高通量能提高加工效率:与之前的E-3500型相比,采用新型离子枪设计,减少了横截面研磨时间。(最大加工率:硅元素为300微米/小时--加工时间减少了66%。

日立高新离子研磨装置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000  )的可拆卸样品台装置:为便于样品设置和定义研磨边缘,可将样品台装置拆卸。
 

Hitachi日立高新离子研磨装置IM4000​特点

混合模式:两种研磨配置
断面加工:将样品断面研磨光滑,便于表面高分辨观察
平面研磨:不同角度有选择地,大面积,均匀地研磨5 mm的平面,以突显样品的表面特性

高效:提高加工效率,与之前的E-3500型相比,采用新型离子枪设计,减少了横截面研磨时间(最大加工速度:硅材质为300 μm/h - 加工时间减少了66%)

可拆卸式样品台:为便于样品设置和边缘研磨,样品台设计为可拆卸型

规格

项目描述
断面加工台平面研磨台
气源氩气(Ar)
加速电压0-6Kv
最大研磨速率﹡¹﹡²(硅材质)约300μm/h﹡¹﹡²

约20μm/h﹡³(点)

约2μm/h﹡⁴(面)

最大样品尺寸20(W)×12(D)×7(H)mmΦ50×25(H)mm
样品移动范围X±7mm,Y0-+3mmX0-+5mm
旋转角度-1r/m,25r/m
摆动角度±15°,±30°,±40°±60°,±90°
倾斜-0-90°
气体流量控制系统流量调节器
排气系统涡轮分子泵(33L/S)+机械泵(50Hz时,135L/min,60Hz时,162L/min)
仪器外观尺寸616(W)×705(D)×312(H)mm
仪器重量主机48kg+机械泵28Kg
可选附件光学显微镜(用于观测研磨中的样品)

﹡¹:此研磨速率是对研磨板边缘处的硅材质的材料研磨至100μm粒度时所获得的最大深度值

﹡²:此研磨速率是对硅材质的材料进行研磨两小时后获得的平均值

﹡³:照射角度60°偏心值4mm

﹡⁴:照射角度0°偏心值0mm

 

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