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Hitachi日立高新场发射扫描电镜SU9000

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更新时间:2020-08-19

简要描述:

Hitachi日立高新场发射扫描电镜SU9000
日立高新超高分辨率场发射扫描电子显微镜SU9000是专门为电子束敏感样品和需最大300万倍稳定观察的先进半导体器件,高分辨成像所设计。新的电子枪和电子光学设计提高了低加速电压性能。

Hitachi日立高新场发射扫描电镜SU9000

 

日立SU9000超高分辨冷场发射扫描电镜,达到扫描电镜二次电子分辨率0.4nm和STEM分辨率0.34nm。日立SU9000采取了全新改进的真空系统和电子光学系统,不仅分辨率性能明显提升,而且作为一款冷场发射扫描电镜甚至不需要传统意义上的Flashing操作,可以高效率的快速获取样品超高分辨扫描电镜图像。

日立高新超高分辨率场发射扫描电子显微镜SU9000是专门为电子束敏感样品和需最大300万倍稳定观察的先进半导体器件,高分辨成像所设计。
新的电子枪和电子光学设计提高了低加速电压性能。
0.4nm / 30kV(SE)
1.2nm / 1kV(SE)
0.34nm / 30kV(STEM)
用改良的高真空性能和的电子束稳定性来实现高效率截面观察。


Hitachi日立高新场发射扫描电镜SU9000

采用全新设计的Super E x B能量过滤技术,高效,灵活地收集SE / BSE/ STEM信号。

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