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Hitachi日立高新荧光分布成像系统

浏览次数:75

更新时间:2020-08-20

简要描述:

Hitachi日立高新荧光分布成像系统将荧光分光度计与CMOS相机结合在一起,能够同时观察样品光谱和图像的技术。软件方面:运用了智能光谱算法,可以获取样品任意区域的光谱信息。常规的荧光分光光度计测得的是样品表面信息平均化的信号,得到的是一条荧光光谱,这个新的系统能够对样品表面进行分区,从而获得不同区域的光谱信号,使得光谱信息细致化了。

Hitachi日立高新荧光分布成像系统
上市时间:2019年10月
创新点主要有两个方面:硬件方面:将荧光分光度计与CMOS相机结合在一起,能够同时观察样品光谱和图像的技术。软件方面:运用了智能光谱算法,可以获取样品任意区域的光谱信息。常规的荧光分光光度计测得的是样品表面信息平均化的信号,得到的是一条荧光光谱,这个新的系统能够对样品表面进行分区,从而获得不同区域的光谱信号,使得光谱信息细致化了。


Hitachi日立高新荧光分布成像系统产品简介

1.  荧光分布成像系统(EEM View)简介

作为荧光分光光度计的配件系统,这是将相机与荧光分光光度计的完美结合,融合了智能算法的先进技术。能够同时获取样品图像和光谱信息。

新型荧光分布成像系统可安装到F-7100荧光分光光度计的样品仓内。入射 光经过积分球的漫反射后均匀照射到样品,利用F-7100标配的荧光检测器可以获得样品荧光光谱,结合积分球下方的CMOS相机可获得样品图像,并利用独特的AI光谱图像处理算法,可以同时得到反射和荧光图像。

2.  荧光分布成像系统特点:
①测定样品的光谱数据(反射光、荧光特性)
②在不同光源条件下(白光和单色光)拍摄图像(区域:Φ20mm、空间分辨率:0.1 mm左右、波长范围:360-700nm)
③利用自主研发的分析系统1),分开显示荧光图像和反射图像
④根据图像可获得不同区域的光谱信息(荧光光谱、反射光谱)

 国立信息学研究所 佐藤IMARI 教授?郑银强副教授共同研究成果
荧光分布成像系统软件分析(EEM View Analysis)界面(样品:LED电路板)

 

样品安装简单,适用于各种样品测试
样品只需摆放到积分球上,安装十分简单!
丰富的样品支架

支持准确测量的校正工具

 

总结
以上为荧光分布成像系统的特点和功能结束,这是一种全新的技术,将它配置到荧光分光光度计中,改变了常规荧光光度计只能获得样品表面区域平均化信息的现状,可以查看样品图像任意区域的光谱信息,十分适合涂料、材料、油墨、LED、化工等领域。

 

注:该仪器未取得中华人民共和国医疗器械注册证,不可用于临床诊断或治疗等相关用途

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